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        对此，他倒是没有什么意外，要是第一次设计芯片，还是这种高难度的CPU芯片，可以一步到位，那绝对是不可能的事情。

        哪怕是成熟的设计方案，在实际流片过程中，也可能因为加工的误差，出现一些意料之外的问题。

        或者是一次轻微的震动，或者是因为一颗灰尘颗粒，或者是设备的老化，这些都有可能导致结果出现差别。

        纺织法还好一点，如果光刻法，不仅仅加工环境要求非常高，加工成本也居高不下。

        在流片上面，纺织法单次流片成本，才20～40万左右，而光刻法没有几千万，是没有办法搞得的。

        流片成本低，也是新芯片体系的优势之一。

        华为、中兴、紫光和大唐他们，基本就是设计和流片交替进行的，比如紫光的高端储存芯片，单单是这个月，就流片了5次之多。

        如果是光刻法，按照紫光这个流片频率，等他们的芯片设计成熟，估计流片成本就是几十亿了。

        可以低成本的流片，让一众半导体企业的设计，有更加多的机会进行流片，这就是低成本试错的优势。

        通过这种方式，很多菜鸟半导体设计人员，迅速成长起来。

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