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        光刻胶是什么？

        这个问题，对于很多人来说，可能都是一个陌生的词汇。

        但是，半导体领域的人肯定都知道这个东西。

        虽然不起眼，不如光刻机贵重，但也是一个极为核心的关键。

        它是利用光化学反应经光刻工艺将所需要的微细图形从掩膜版转移到待加工基片上的图形转移介质，由成膜剂、光敏剂、溶剂和添加剂等主要化学品成分和其他组剂组成，在紫外光、深紫外光、电子束、离子束等关照或辐射下，其溶解度发生变化，经适当溶剂处理，溶去可溶性部分，最终得到所需图像。

        光刻胶被广泛应用在光电信息产业的微细图形线路的加工制作，是微细加工技术的关键性材料。

        在半导体领域，光刻是芯片制造最核心的工艺，光刻胶的质量和性能是影响芯片性能和成品率以及可靠性的关键因素。

        而光刻胶也被分为普通宽普光刻胶、g线、i线、KrF、ArF以及最先进的EUV光刻胶。

        根据应用领域的不同，也分为了PCB光刻胶、LCD光刻胶和半导体光刻胶，其中PCB光刻胶的技术壁垒最低，半导体光刻胶的技术门槛最高。

        全球光刻胶的市场销售额达到了20亿的规模。

        这个规模并不算大，但是却很重要。

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